172nm准分子灯技术应用范围

  由于大多数碳氢化合物对172nm波长的紫外线具有较强的吸收能力,并能在吸收172nm波长后分解成离子,流离态原子,受激分子和中子等,这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了172nm波长的紫外光后,会产生臭氧和氧气,臭氧对254nm波长具有很强的吸收性,臭氧有能分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性,可以将碳氢化合键切断,生成水和二氧化碳等易挥发气体,从被照射物表面飘逸出,彻底清除物体表面的污染物。这就是紫外线nm准分子清洗灯

  3.不同于其他解决方法(如酸洗处理后的表面会留有很多腐蚀孔),对物体表面没有损伤,保持平滑性

  1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗

  3.高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成;

  5.在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中,在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗,可以极大的提高基体表面润湿性,增强基体表面的粘合力;

  6.印制电路板生产中,对铜底板,印刷底板进行光清洗和改质,在导线焊接前进行光清洗,能大大的提升熔焊的接触面积,大幅度提升连接强度。特别是高精度印制电路板,当线距达到亚微米级时,光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒,可以大幅度提高印制电路板的质量。

  7.大规模集成电路的密度慢慢的升高,晶格的微细化越来越密,要求表面的洁净度慢慢的升高,光清洗可以轻松又有效地实现表面的原子清洁度,而且对芯片表面不会造成损伤。

  8.在半导体生产中,硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗,能大大的提升粘合力,防止针孔裂缝的发生

  10.磁头固定面的粘合,磁头涂敷,以及提高金属丝的连接强度,光清洗后效果更好。

  11.石英晶体振荡器生产中,除去晶体检测后涂层上的墨迹,晶体在银蒸发沉积前,进行光清洗能大大的提升镀膜质量和产品性能。

  14.敷铜箔层压板生产中,经过光照改质,不仅表面洁净而且表明产生十分均匀的保护氧化层,产品质量显著提高

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